Facultad de Ciencias Exactas y Naturales

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Facultad de Ciencias Exactas y Naturales

• Universidad Nacional de Colombia
• Sede Manizales

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FACULTAD DE CIENCIAS EXACTAS Y NATURALES

• Universidad Nacional de Colombia
• Sede Manizales
• ANDRES ROSALES RIVERA
• Decano
• HERMELINDA ORDOÑEZ PINZON
• Vicedecana
• Física y Química
• Matemáticas y Estadística
• Departamentos

Bloque D Piso 5
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PRESENTACION

• Desde su inicio en junio de 2006, la Facultad de
  Ciencias Exactas y Naturales de la Sede
  Manizales, se propuso constituirse en un dinámico
  centro de investigación científica y aplicada en
  las áreas de Física del Plasma, Magnetismo,
  Óptica, Semiconductores y Materiales en general,
  Enseñanza de la Física y de la Matemática,
  Matemática Aplicada, Matemática Computacional,
  Química, Alimentos y productos Naturales. Este
  objetivo se logra fortaleciendo la capacitación
  científica de sus Profesores, la infraestructura
  de sus Laboratorios, y la investigación
  interdisciplinaria en las diferentes áreas de
  trabajo. Los logros alcanzados en el desarrollo
  de las investigaciones se reflejan en
  publicaciones, participación en eventos
  científicos, registros de software y formación de
  talento humano a través del desarrollo de tesis
  de Doctorado, Maestría y Pregrado. A continuación
  se presentan los resultados de nuestra actividad
  de investigación y formación de talento humano.
  La Facultad cuenta con sólidas relaciones de
  colaboración Nacionales e Internacionales

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Los artículos incluyen el periodo previo a la
creación de la Facultad de Ciencias Exactas y
Naturales en el año 2006.

• ARTICULOS PUBLICADOS 244
• Nacionales 138
• Internacionales 106
• PARTICIPACION EN EVENTOS 67
• Nacionales 35
• Internacionales 32
• ESTUDIANTES GRADUADOS 184
• Pregrado 135
• Posgrado 49

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GRUPOS DE TRABAJO ACADEMICO Y LABORATORIOS
A continuación se realiza una breve descripción
de los grupos, laboratorios adscritos a la
Facultad y su infraestructura experimental.

• Grupo de Alimentos Frutales
• Profesor Carlos Eduardo Orrego. E-mail
  corregoa_at_unal.edu.co
• Grupo Laboratorio Física del Plasma
• Profesor Fundador Alfonso Devia Cubillos
  (Q.E.P.D.)
• Pedro José Arango. E-mail pjarangoa_at_unal.edu.co
  
• Grupo de Magnetismo y Materiales Avanzados
• Profesor Andrés Rosales Rivera. E-mail
  arosalesr_at_unal.edu.co
• Grupo de Propiedades Ópticas de Materiales
• Profesor Carlos Vargas H. E-mail
  cvargash_at_unal.edu.co
• Grupo de Métodos Numéricos
• Profesor Daniel Acosta M. E-mail
  cdacostam_at_unal.edu.co
• Grupo de Materiales Nanoestructurados
• Profesor Oscar Hernán Giraldo O. E-mail
  ohgiraldoo_at_unal.edu.co

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• Laboratorio de Física del Plasma
• Laboratorio de Magnetismo y Materiales Avanzados
• Laboratorio de Propiedades Ópticas de Materiales
• Laboratorio de Materiales Nanoestructurados y
  Funcionales
• Laboratorio de Nanoestructuras Semiconductoras
• Laboratorio de Química
• Laboratorio Virtual de Física
• Laboratorio de Métodos Numéricos

En la actualidad se están conformando nuevos
grupos en las áreas de Enseñanza de las
Matemática y de la Física, Materiales, Biología
Celular y Molecular, Productos Naturales, de los
cuales se presenta un resumen de las
publicaciones realizadas durante los últimos 3
años.
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PUBLICACIONES
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Laboratorio de Física del Plasma

•  Análisis Estructural y de Composición Química de
  Materiales
• Difractómetros de rayos X (XRD)
• Espectroscopia de fotoelectrones (integrada) con
  rayos X (XPS)
• Microscopia electrónica de barrido (E-SEM)
• Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) y Magnética
  (MFM)
• Espectroscopia de Fourier en el Infrarrojo.
• Sistemas para la Producción de Películas
• Sistema automatizado PAPVD (deposición física de
  vapor asistida por plasma) de arco pulsado.
• Sistema automatizado PAPVD (deposición física de
  vapor asistida por plasma) de arco pulsado
  repetitivo de alta potencia.
• Sistema Sputtering (Pulverización) DC
• Sistema CACVD (deposición Química de Vapor
  Asistida por Plasma).
•  Blancos para la Producción de Películas
• Grafito 99,999 y Carbono 99,999.
• Tungsteno, Zirconio, Aluminio, Titanio, Zinc,
  Molibdeno, Niquel, Boro Carburo de Tungsteno,
  TiAl y TiALV.

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• Sistemas para la Caracterización de Plasmas
• Espectrógrafo de Emisión Óptica
• Sonda doble de Langmouir
•  
• Sistemas de Vacío
• 3 Bombas de vacío turbomoleculares, mecánicas y
  difusoras
• 4 sistemas de sensores y medidores para alto
  vacío.
•  
• Sistemas para mediciones de señales eléctricas
• Para medir señales eléctricas pequeñas y de corta
  duración en el tiempo
• Osciloscopios Infinium y Tectronix.
•  
• Sistemas de gases
• Se cuenta con Gases Argón Nitrógeno, Oxígeno,
  Hidrógeno y Acetileno que permiten la producción
  de diferentes recubrimientos tales como óxidos,
  nitruros y polímeros entre otros.
• Sistema de distribución con salidas en 8
  diferentes puestos de trabajo.
• Sistema de tratamiento y limpieza de muestras
• limpieza física por medio de cuba ultrasónica
• limpieza química con materiales reactivos.

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Laboratorio de Magnetismo y Materiales avanzados

• Análisis Térmico
• Calorímetro diferencial de barrido modulado, MDSC
  Q 100, TA Instruments, dotado de facilidad para
  variar la temperatura desde 90º C hasta 600º C y
  auto muestreador de 50 muestras.
• Analizador Termogravimetrico, TGA Q 500, TA
  Instruments, dotado de facilidad para variar la
  temperatura desde temperatura ambiente hasta
  1000º C y auto muestreador de 16 muestras.
•  
• Caracterización Magnética y Eléctrica de
  Materiales
•  Sistema para medir la impedancia de materiales
  con y sin campo magnético en frecuencias desde 1
  Hz hasta 30 MHz a temperatura ambiente. En
  funcionamiento. Desarrollado por el grupo.
• Magnetómetro de muestra vibrante convencional
  (temperatura ambiente y campos magnéticos hasta
  0.7 tesla). En funcionamiento. Desarrollado por
  el grupo.
• Sistema de efecto Hall y resistividad eléctrica
  usando el método de las cuatro puntas
  (temperatura ambiente y campos magnéticos hasta
  de 0.7 tesla). En funcionamiento. Desarrollado
  por el grupo.
• Sistema para medir la susceptibilidad magnética
  AC. Criostato de nitrógeno liquido de temperatura
  variable. Rango de temperatura, desde -70 hasta
  300 C.

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• Análisis Electroquímico
• Potenciostato para realizar síntesis de
  materiales (desarrollado por el grupo).
• Valoraciones Culombométricas y Voltamperometría
  (desarrollado por el grupo).
• Potenciostato PC4/750, marca Gamry.
•  
• Técnicas de Síntesis de Materiales
• Sistema para el de crecimiento controlado de
  materiales magnéticos por el método de deposición
  electroquímica (desarrollo por el grupo).
• Sistema de molienda, Universal Magnetic Ball
  Mill.
• Horno automatizado para la sinterización de
  materiales
•  
• Sistema de Gases
• Se cuenta con las siguientes líneas de gases con
  salidas en varios puestos de trabajo Nitrógeno,
  Oxígeno, Aire Seco, Amoniaco, Hidrógeno, Helio y
  Argón.

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Propiedades Ópticas de Materiales

• Micro-Raman
• Sistema óptico de modulación
• Laseres en el visible
• Amplificadores lock-in
• Horno automatizado para la sinterización de
  muestras
• Equipo deposito por baño químico
• Sistema de absorción visible ultravioleta
• Medición de resistividad de cuatro puntas
• Medidor de índice de refracción en soluciones
• Computadoras
• Mesa óptica antivibratoria
• Laseres, espejos, lentes y rieles ópticos
• Equipo para crecimiento de películas por depósito
  electroquímico
• Equipo para crecimiento de películas por métodos
  químicos

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Laboratorio de Materiales Nanoestructurados y
Funcionales

• Caracterización eléctrica de materiales
• Espectroscopia de impedancia Medidor de
  impedancia y ganancia de fase, Solartron 1260 (10
  microHz hasta 32 MHz)
•  
• Análisis de textura de materiales a temperatura
  de nitrógeno líquido
• Área superficial, tamaño y volumen de poro, ASAP
  2020, Micromeritics
•  
• Análisis electroquímico de materiales a
  temperatura ambiente
• Fenómenos electroquímicos Equipo Bas Epsilon
•  
• Análisis estructural a muestras policristalinas a
  temperatura ambiente
• Difractómetro de rayos X, RIGAKU, MINIFLEX II

Laboratorio de Nanoestructuras y Semiconductoras
Sistema de fabricación de materiales usando la
técnica de Sputtering (en adquisición)