Foto-resistes positivos e negativos: contraste

1
Litografia par estruturas reais
2
Correção de máscaras (OPG- óptical proximity
correction)
3
Phase shifting technique melhoria em contraste
4
Sistema de projeção de varredura (11),
com alta efficiência (throughput), usado para
lâminas grandes
5
Seqüência de gravação step-and-repeat
6
Espessura de resiste em função da velocidade de
spinner
7
Dispositivos para recozimento (baking) de resiste
8
Exposição efeito do tempo
9
Interferência da luz dentro de resiste ondas
estacionárias
10
Anti-reflection coating, exemplo de uso
11
Revelação efeito do tempo
12
Litografia com feixe de elétrons
13
Espalhamento de elétrons em resiste e substrato,
efeito de proximidade
14
Efeitos de inter- e intra-proximidade